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高溫循環(huán)器適用于夾套反應釜,化工中試反應,高溫蒸餾,半導體工業(yè)等。用于夾套反應釜,化工中試反應,高溫蒸餾,半導體工業(yè)等。GX系列高溫循環(huán)器彌補了國內(nèi)同類產(chǎn)品的不足之處,價格又極大的低于進口產(chǎn)品,是理想的選擇。
高溫循環(huán)器適用于夾套反應釜,化工中試反應,高溫蒸餾,半導體工業(yè)等。用于夾套反應釜,化工中試反應,高溫蒸餾,半導體工業(yè)等。GX系列高溫循環(huán)器彌補了國內(nèi)同類產(chǎn)品的不足之處,價格又極大的低于進口產(chǎn)品,是理想的選擇。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
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HXC-500-4A/AE多點磁力攪拌低溫槽具有磁力攪拌功能的多功能浴槽。廣泛應用于石油、化工、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實驗室、教育科研等領(lǐng)域。
